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泰晶科技某高精度光刻配套設備再創佳績
2021-05-27 07:59:26   來源:    點擊:

  泰晶科技最新研制的用于光刻工程的高精度配套設備—全自動晶圓調頻及測選機,近日又取得新突破,該設備適用于光刻晶圓頻率調整及分測,配合基于半導體技術的光刻制程量產及質量提升。這一設備的研制成功,不僅填補了行業空白,而且保證了關鍵性技術的保密性,為公司正在進行的大規模擴產提供了更優的方案。

  該設備采用特定的光譜取代原有光源,使用全新的測試線路及測量方式,大幅提高了設備的精度及效率。目前使用設備頻率調整精度可達±5PPM,合格率98.5%以上,各項指標達到國際先進水平。擁有自主知識產權的設備研發,使公司具有持續創新能力,經過設備升級,可加工更小型的1毫米系列產品。

  該設備的研發成功不僅極大提高了產品品質及生產效率,而且設備性能優勢得到日本同行的高度認可。目前已交付多套給某全球著名同行,得到該全球巨頭同行的高度評價。

  早在十一年前,我司領導高瞻遠矚,幾乎與全球巨頭同步開展半導體光刻工藝在壓電晶體行業的研究,同時開始一系列相關裝備的自主研制。幾十道工序的半導體工藝關鍵裝備,經過近十代設計更新換代,已開始列裝生產一線,一系列半導體光刻工藝設備隨產品制程工藝同步研發,在高精度、自動化程度上不斷升級優化。獨有的裝備自主研制能力,是我司產品、工藝、技術等多學科高度集成、走在前列的體現,也是泰晶科技邁向全球頭部戰略的重要保障。

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